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二氧化铈抛光介质制备通过鉴定_dxb.120ask.com

时间:2018-04-13 12:26:03

由江苏工癫痫病专业医院有哪些业学院和江苏省陶瓷研究所有限公司共同承担的江苏省高新技术项目“纳米sp;

该项

据悉,研究人员采用所研制的CeO2抛光介癫痫病能治疗吗质对硅晶片和砷化镓晶片抛光,表面粗糙度分别为Ra≤0.089nm和Ra≤0.740nm,满足了超光滑加工的要求,在满足超光滑抛光的同时可提高抛光癫痫病医院哪家好效率。应用试验结果表明,该技术能明显降低硅晶片表面粗糙度,为集成电路基片超光原发性癫痫病症状滑加工提供了关键技术。

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